设备型号：DSI-D-PHA0006-A01
应用范围：电容电感线路图形光刻、LED晶圆
主要特点：
1、设备采用高照度、高均匀性的365纳米紫外光学系统，实现最小1um光刻分辨率（可根据客户需求定制、可选用LED光源）
2、采用接近式的工作方式（可选接触式、真空式），双工位全自动上下料、24小时持续生产，产能处于业内领先水平
3、独特的电源调节系统配合电驱动式光源调节系统，可连续不间断调节曝光功率，完美适配多种生产场景需求
4、搭载高精度CCD相机，实现正面1um精确对位，精密的掩膜版/光刻胶间隙（Gap）控制
主要参数:
| 主要参数 | 加工尺寸 | 曝光尺寸：6"*6" |
| 加工速度 | >140pcs/h（曝光时间=15s） >300pcs/h（曝光时间=3s） | |
| 加工精度 | 曝光分辨率：3μm (支持客户定制) | |
| 平台定位精度 | X 轴： ±1μm | |
| Y 轴： ±1μm | ||
| Z 轴： ±3μm | ||
| Theta 轴： 0.1° | ||
| 激光器参数 | 光源：500W UV Lamp，波长365nm (光源可选UVLED或UV汞灯，支持客户定制) 感光区域：132*132mm (支持客户定制) 工作照度：≥34mw/cm2 光源均匀度：≤3% 曝光均匀度：≤10% | |
| Tact time | 9s(不包含曝光时间） | |
| 稼动率 | >0.95 |
加工效果：
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