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设备型号:CD12-XC6C6D1A
应用范围:化合物半导体、功率器件、MEMS、射频集成电路、LED
设备咨询
主要特点:
设备特点:
1、堆叠式高产能架构,占地面积小
2、配备多段回吸的多腔体共用供胶系统,有效节省光刻胶的用量
3、选配高精度热板、WEE、AOI等单元部件,满足更高标准工艺需求
4、核心单元模块化设计,组合方式灵活多变,最大限度客制化
5、满足工厂FA自动化需求
6、可以与主流光刻机联机
主要参数:
片盒数量
4LP
wafer 类型
圆片
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