前道涂胶显影机

设备型号:CD12-XC6C6D1A

应用范围:化合物半导体、功率器件、MEMS、射频集成电路、LED




主要特点:

设备特点:

1、堆叠式高产能架构,占地面积小

2、配备多段回吸的多腔体共用供胶系统,有效节省光刻胶的用量

3、选配高精度热板、WEE、AOI等单元部件,满足更高标准工艺需求

4、核心单元模块化设计,组合方式灵活多变,最大限度客制化

5、满足工厂FA自动化需求

6、可以与主流光刻机联机






主要参数:


主要参数

片盒数量

4LP

wafer 类型

圆片

wafer 尺寸(mm)200,300
产能(WPH)120
衬底材料Si、Glass
适用工艺PI、I- line、Barc、SOG、SOC、KrF



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