设备型号:DSI-S-TC9221
应用范围:应用于MEMS传感器,麦克风,压感芯片,测温芯片,惯性传感器,生物芯片,陀螺仪,RFID Sensor,Memory/SDBG,光通讯等硅基晶圆的激光改质切割领域。
主要特点:
设备特点:
1、针对Si材料特性开发出的光源系统,实现高精度的内部改质切割
2、切割速度快,良好的硅渣碎屑控制能力
3、作业无耗材,加工无材料损失
4、全自动作业,兼容6、8英寸晶圆,12英寸可客制
5、提供系统解决方案,配套扩片设备
6、SEMI标准,支持SECS-GEM通信
主要参数:
| 主要参数 | 晶圆衬底 | Si 衬底 |
| 晶圆尺寸 | 6英寸、8英寸,(12英寸,可客制) | |
| 晶圆厚度 | 50um-1000um | |
| 切割速度 | 400mm-1000mm/s | |
| 定位精度 | 重复定位精度:±1um 定位精度:±1um | |
| 传输系统 | Load port, robot,aligner | |
| 长x宽x高 | 2070mmx1420mmx2238mm |
加工效果:

